<span id="5pfxh"><video id="5pfxh"></video></span>
<span id="5pfxh"><noframes id="5pfxh">
<th id="5pfxh"><noframes id="5pfxh"><th id="5pfxh"></th>
<th id="5pfxh"><noframes id="5pfxh">
<strike id="5pfxh"><video id="5pfxh"><strike id="5pfxh"></strike></video></strike>
<th id="5pfxh"></th>
<th id="5pfxh"><noframes id="5pfxh"><th id="5pfxh"></th> <th id="5pfxh"><noframes id="5pfxh"><th id="5pfxh"></th>
<th id="5pfxh"></th>
<th id="5pfxh"><noframes id="5pfxh"><th id="5pfxh"></th>
<span id="5pfxh"><video id="5pfxh"></video></span>
真空網歡迎您!
鍍膜種類的詳細劃分
標簽:
2023-02-02  閱讀

微信掃一掃分享

QQ掃一掃分享

微博掃一掃分享

  【康沃真空網】鍍膜種類劃分情況

  鍍膜按類型劃分,首先可以分為:干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

  其中干式鍍膜主要有:真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種

  真空蒸發鍍膜可細分為:

  電阻蒸發鍍膜(適用于蒸發低熔點材料,如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等)

  電子束蒸發鍍膜(可蒸發難熔金屬,如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等)

  高頻感應加熱蒸發鍍膜(蒸發速率達,蒸發源溫度穩定,操作簡單,對材料純度要求較寬。)

  電弧加熱蒸發鍍膜(特別適用于熔點高,同時具有一定導電性的材料,如石墨;裝置簡單,較廉價,缺點是放電產生的微米級顆粒會影響膜的一致性)

  激光束蒸發鍍膜(可蒸發任何高熔點材料)

  反應蒸發鍍膜(蒸鍍難熔化合物,如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等)

  濺射鍍膜可分為:

  直流二極濺射:僅適用于導電膜

  直流三極濺射:僅適用于導電膜

  直流四極濺射:僅適用于導電膜

  射頻濺射:采用射頻電源,可鍍氧化硅,氧化鋁材料

  對向靶濺射:可提高沉積速率,制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

  離子束(IBS)濺射:利用離子源發出離子

  磁控濺射:

  碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎上,在靶材后面安放了磁鋼,使用弧光發

  電,用于蒸發源。

  真空離子鍍膜可分為:

  陰極電弧離子鍍:

  提高了沉積速率和膜的質量;

  還可生成致密均勻,

  附著力優良的化合

  物膜

  空心陰極離子鍍:使用空心陰極等離子電子束

  多弧離子鍍

  濕式鍍膜可分四種:

  電鍍

  陽極氧化

  化學鍍

  化學轉化膜處理


色吧综合