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水鍍,真空鍍,濺鍍、涂鍍的區別在哪里
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2023-02-04  閱讀

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  【康沃真空網】什么是PVD 技術(物理氣相沉積Physical Vapor Deposition) :

  PVD-物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。

  PVD基本方法:真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

  PVD 技術是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術,它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點(此章節主要闡述PVD 技術在不銹鋼及銅料表面電鍍加硬膜HC 的應用),是表面處理工程領域較佳的選擇。

  PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下,等離子場下的輝光反應,亦是一個高凈化處理過程;鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主,鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的,使得PVD 產品本身具備純凈的環保性能。

  PVD 可以做出成千上萬種顏色,甚至可以說自然界有的顏色,差不多都可以用PVD的方法做出來。如金色系列:歐洲金(2N18 及1N14)、日本金(GY01)、中國金(GY2N) 等;咖啡系列:深咖、淺咖、中咖等;黑色系列:槍色、灰色、超黑色等;時尚系列:太空色、香擯色、卡其色等。

  水鍍

  一般的電鍍(冷鍍)也就是指水鍍,是最常見的電鍍方式,是一個電化學的過程,利用正負電極,加以電流在鍍槽中進行,鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍鉻,鍍鎘等,電鍍液污染很大。水鍍還要分為電鍍和化學鍍兩種,電鍍一般作為裝飾性表面,因為有高亮度,化學鍍的表面比較灰暗,一般作為防腐蝕涂層。電鍍時,鍍層金屬做陽極,被氧化成陽離子進入電鍍液;待鍍的金屬制品做陰極,鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層.為排除其它陽離子的干擾,且使鍍層均勻、牢固,需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液,以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。

  真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍

  真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快附著力好的突出優點,但是價格也較高,可以進行操作的金屬類型較少,一般用來作較高檔產品的功能性鍍層。

  真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱,使其熔融、蒸發,冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表面的微小凹凸部分填平,以獲得如鏡面一樣的表面,無任是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍,還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時,都必須進行底面涂布處理。

  濺鍍通常指的是磁控濺鍍,屬于高速低溫濺鍍法。該工藝要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣(Ar),并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,由于輝光放電(glow discharge)產生的電子激發惰性氣體,產生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子轟出,沉積在塑膠基材上。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍。

  離子鍍是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。

  涂鍍

  涂鍍,又稱為刷鍍或無槽電鍍,是在金屬工件表面局部快速電化學沉積金屬的技術,其在原理和本質都屬于電化學加工中電鍍工藝的范籌。是和電解相反,利用電鍍液中金屬離子在電場的作用下,鍍覆沉積到陰極上去的加工過程。


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