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4種濺射靶材簡述
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2023-03-16  閱讀

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  【康沃真空網】高純濺射靶材,包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等。濺射靶材主要涉及平板顯示、半導體、存儲和太陽能電池四大領域。

  鋁靶

  高純鋁及其合金是應用最廣泛的導電膜材料之一。在其應用領域,VLSI芯片的制造對濺射靶金屬的純度要求最高,通常要求高達99.9995%,平板顯示器和太陽能電池的金屬純度略低。

  鈦靶

  鈦是超大規模集成電路芯片中最常用的阻隔膜材料之一(對應的導電層材料為鋁)。在預芯片制造過程中,鈦靶將與鈦環一起使用。主要作用是輔助鈦靶完成濺射工藝,主要應用于超大規模集成電路芯片制造領域。

  鉭靶

  隨著智能手機平板等消費電子產品需求爆發式增長,高端芯片需求大幅增加,使得金屬鉭成為熱點礦產資源,但鉭資源稀缺,使得高純鉭靶材價格昂貴,主要應用于大規模集成電路等領域。

  鎢鈦靶材

  鎢鈦合金具有低電子遷移率、穩定的熱機械性能、良好的耐腐蝕性和良好的化學穩定性。近年來,鎢鈦合金濺射靶材被用作半導體芯片柵極電路的接觸層材料。此外,鎢和鈦靶材還可用作半導體器件金屬連接中的阻擋層。用于高溫環境,主要用于超大規模集成電路和太陽能電池。

  超高純金屬和濺射靶材是電子材料的重要組成部分。濺射靶材產業鏈主要由金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用組成,其中靶材制造和濺射是整個濺射靶材產業鏈的關鍵環節。


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